热蒸发镀膜仪

一、产品概述

艾博纳热蒸发镀膜仪（ABN-500-YI）是一款高精度的实验室热蒸发镀膜设备，适用于实验室及小规模生产。该设备操作简便，专为高质量薄膜的制备而设计，能提供高均匀性和较高的纯度镀膜效果。由于采用了先进的热蒸发技术，能够在高真空环境下，控制镀膜的质量和厚度，适用于金属、半导体及其他材料的镀膜需求。

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一、产品概述

二、功能特点

1. 高真空蒸发环境：采用机械泵+分子泵或扩散泵组合，实现10⁻⁴–10⁻⁶ Pa级真空；

2. 多蒸发源配置：支持电阻加热舟、钼舟、钨舟及坩埚结构；

3. 多工位样品台：支持样品旋转、倾斜及多片基片同时镀膜；

4. 蒸发速率可控：通过电流、电压精确调节蒸发功率；

5. 膜厚监控：可选配石英晶体膜厚监控系统；

6. 操作简洁：触控界面或按键控制，便于科研与教学使用；

7. 高安全性：具备水冷、过流、真空联锁保护。

三、应用场景与领域

1. 微电子与MEMS器件：金属电极、导线及粘附层沉积；

2. 光学薄膜：反射膜、半反半透膜、保护膜制备；

3. 二维材料与新材料研究：电极直写与界面工程；

4. 教学与科研实验：高校与科研院所薄膜基础实验平台；

5. 传感器与器件封装：功能薄膜与电极制备。

四、技术参数

1、工作压力范围：4×10⁻ 5Pa

2、真空泵启动时间：30分钟，达到5×10⁻ ⁴Pa的真空环境

3、薄膜厚度均匀性：薄膜厚度的均匀性为±3%，最大偏差为±5%

4、膜层厚度控制精度：5%

5、镀膜速度：每小时12小时≤5Pa

6、操作时间：可调时间为0-30分钟

五、典型型号与应用案例

案例编号	应用方向	基片 / 材料	蒸发材料	蒸发材料
案例一	二维材料器件金属电极蒸发	Si / SiO₂	Ti / Au	用于二维材料晶体管及器件金属电极制备，工艺稳定、重复性好
案例二	光学反射膜制备	光学玻璃	Al、Ag	制备中高反射率金属膜，适用于反射镜及光学系统组件
案例三	半导体器件金属互连层制备	Si、玻璃	Al、Cu	用于半导体器件互连与引线层沉积，适合教学与科研平台
案例四	器件封装与保护膜沉积	玻璃 / 金属基片	Al、Cr	用于器件表面保护层与简单封装结构制备