离子体清洗机
一、产品概述
艾博纳等离子清洗机（ABN-PCM-001）是一款用于表面清洁处理的先进设备，适用于多种材料的表面清洗。其主要原理是通过等离子体的作用清洁材料表面，能够高效去除污染物，如有机物、氧化物等，适合在低温下进行清洗，避免对材料造成损伤。
一、产品概述
艾博纳等离子清洗机（ABN-PCM-001）是一款用于表面清洁处理的先进设备，适用于多种材料的表面清洗。其主要原理是通过等离子体的作用清洁材料表面，能够高效去除污染物，如有机物、氧化物等，适合在低温下进行清洗，避免对材料造成损伤。
二、功能特点
1. 高效清洗：可在纳米尺度实现无损清洗，避免传统湿法清洗带来的残留与损伤。
2. 表面活化：显著提升材料表面能，改善后续镀膜、键合、涂覆等工艺一致性。
3. 工艺可控：功率、气体类型、处理时间等参数可精确调节，重复性高。
4. 兼容性强：适用于金属、半导体、玻璃、高分子材料等多种基材。
5. 环保安全：无需化学溶剂，减少污染与废液处理成本。
三、应用场景与领域
• 半导体与微电子：晶圆清洗、光刻前处理、封装前表面活化。
• 光学与精密制造：镜片、滤光片、光学元件镀膜前处理。
• 生物与医疗：医用植入物、培养皿、芯片实验器皿表面改性。
• 新材料与科研：二维材料、柔性电子、功能薄膜研究。
• 工业制造：塑料件喷涂、粘接前表面处理。
四、技术优势
1. 低温处理：适合对温度敏感的材料，不引入热损伤。
2. 处理均匀性好：等离子体分布稳定，适合大面积或复杂结构样品。
3. 工艺窗口宽：支持多种工艺模式，如清洗、刻蚀、活化和表面改性。
4. 系统稳定可靠：适合长时间连续运行，维护成本低。
5. 可拓展性强：可根据需求配置射频、微波或常压等离子源。
五、典型型号及应用案例
应用等级 | 型号 | 核心特征 | 适用对象 | 优势 | 应用案例 |
实验室通用型等离子清洗机（小型） | PC-100 PC-200 PC-300 | 腔体容积：5–20 L 等离子方式：低温射频等离子 支持气体：Ar / O₂ / Air 功率范围：0–100 W 控制方式：触摸屏或旋钮控制 | ·高校实验室 ·材料/化学/生物研究 ·样品前处理 | ·操作简单 ·维护成本低 ·对样品损伤小 | 材料研究、样品前处理 |
半导体与微纳加工型等离子清洗机（中型） | PC-500 PC-800 PC-1000 | ·腔体容积：30–100 L ·支持多气路（Ar / O₂ / N₂ / CF₄） ·功率范围：0–300 W ·可编程工艺参数 ·支持晶圆托盘（2–6 inch） | 微纳加工实验室 ·MEMS / 传感器研发 ·半导体工艺前处理 | ·工艺稳定性高 ·清洗均匀性好 ·可重复性强 | 晶圆、MEMS、 二维材料 |
工业自动化等离子清洗系统（大型） | PC-2000 PC-3000 PC-AUTO | ·腔体容积：>150 L ·支持大尺寸样品或批量处理 ·自动进出料接口 ·工艺数据记录与导出 ·可对接产线或手套箱 | 批量生产线 ·封装与贴合工艺 ·高一致性表面处理需求 | ·高通量 ·高一致性 ·可 7×24 h 稳定运行 | 批量生产、产线集成 |
六、技术参数
1、可视化触摸屏：可实时监控过程参数。
2、气体种类：支持氩气、氧气、氢气、氮气和氟化气体。
3、气体通道：双路工艺气体配置 。
4、流量控制：双路气流控制，支持比例可调。
5、精度：高精度流量监测系统。